Teknologi pembersihan komponen semikonduktor

Industri semikonduktor menghadapi kesulitan besar dalam menjaga kebersihan proses karena karakteristik komponen semikonduktor sensitif dan memerlukan pembersihan yang sangat presisi.

Untuk memperpanjang masa pakai komponen dan memastikan hasil produksi yang tinggi, penting untuk mencapai keseimbangan antara menghilangkan kontaminan dan menjaga integritas material.

Penerapan teknologi pembersihan yang sangat presisi sangat penting seiring dengan kemajuan proses yang berkelanjutan untuk memenuhi permintaan manufaktur semikonduktor yang terus berubah.

Bahan-bahan yang digunakan dalam perangkat semikonduktor meliputi aluminium, kuarsa, keramik, baja tahan karat, dll., dan bahan-bahan tersebut diproduksi dalam berbagai bentuk tergantung pada prosesnya.

Seiring berjalannya proses, logam, karbon, minyak, lilin, residu tahan, sidik jari, dan berbagai senyawa terakumulasi pada bagian-bagian tersebut. Metode pembersihan untuk menghilangkannya meliputi pembersihan basah menggunakan bahan kimia, pembersihan kering (bead blasting), semburan air, semprotan CO2, ultrasonik, plasma, dll. Keuntungan dari pembersihan basah adalah biaya pembersihan dan produktivitasnya tinggi, tetapi alasan mengapa agen pembersih tradisional digunakan adalah karena kontaminan yang menempel pada bagian semikonduktor hanya dapat dikombinasikan dengan bahan kimia yang beracun dan sangat korosif seperti asam hidrofluorida (HF). Kombinasi agen pembersih yang saat ini digunakan bersifat universal dan dapat diperoleh dengan biaya rendah, dan dapat menghilangkan endapan yang terbentuk pada bagian-bagian, tetapi kenyataannya adalah bahwa sebagian besar bagian rusak karena rendahnya material dan selektivitas bagian-bagian tersebut. Baru-baru ini, karena lebar jalur sirkuit semikonduktor telah menjadi sangat tipis, manajemen pengendalian kontaminasi yang terkait langsung dengan hasil produksi telah menjadi lebih ketat, yang membutuhkan pembersihan komponen semikonduktor dengan sangat presisi. Cham Clean memasok bahan kimia presisi yang sama sekali tidak merusak komponen untuk mengurangi biaya pembelian komponen mahal dan mengelolanya.

Teknologi pembersihan Turbo Molekuler & Pompa CRYO

Turbo Pump: Turbo pump adalah jenis pompa vakum yang digunakan untuk menciptakan dan mempertahankan vakum tinggi dalam industri semikonduktor. Pompa ini beroperasi berdasarkan prinsip bilah turbin yang dipasang pada rotor. Pompa ini terdiri dari serangkaian bilah yang berputar dan diam yang ditumpuk di atas satu sama lain.

Cryo Pump: Cryogenic Pump (CRYO Pump) adalah jenis pompa vakum yang menggunakan kriogenik untuk mencapai tingkat vakum tinggi. Pompa ini beroperasi berdasarkan prinsip pembekuan dan penangkapan gas untuk menciptakan vakum. Pompa ini terbuat dari berbagai bahan, dan metode pembersihan fisik (Bead Blasting, Blushing) untuk kontaminan yang menempel dapat merusak komponen.

Bilah turbin terbuat dari paduan aluminium, dan permukaannya dilapisi nikel untuk memberikan ketahanan aus dan ketahanan korosi terhadap gas korosif. Lebih jauh lagi, bilah berlapis nikel dengan permukaan halus dapat mengurangi gesekan dan hambatan molekul gas saat berputar dengan kecepatan tinggi, sehingga meningkatkan efisiensi proses pemompaan.

Metode pembersihan fisik Bead Blast dan Blushing untuk menghilangkan berbagai kerak kompleks yang menempel pada bagian internal pompa yang menyebabkan kerusakan pada permukaan logam. Cham Clean menyediakan bahan pembersih untuk Wet Cleaning.